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초정밀 금형
MEMS 기술을 이용하여 나노•마이크로 패턴 사이즈의 초정밀 금형 제작
핵심기술
포토 리소그래피, 스캐너, 레이저 다이렉트 라이팅 등의 반도체 공정을 이용하여 마이크로/나노 패턴을 Si-wafer 또는 Quartz 위에 전사한 후 용도에 따라 Ni 도금 공정을 수행하여 Ni base mold 및 미세 금형 전 공정에서의 고객 솔루션을 제공
사양
패턴 크기: 100nm ~ 수백 μm, 형상비 < 3
패턴 형상: Pillar, Grating, Pinhole, Channel 등
가공 소재: Si-wafer, Quartz, Sodalime glass, Metal 등
응용분야
나노임프린트용 템플릿, 미세구조 플라스틱 칩 사출용 금형, 반사방지 구조체 등
